重磅!我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构;这个领域,我国

发布时间:2022-09-15 12:12 已有: 人阅读

  14日夜,国际顶级学术期刊发表了我国科学家在下一代光电芯片制造领域的重大突破。南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队,发明了一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术,将飞秒脉冲激光聚焦于材料“铌酸锂”的晶体内部,通过控制激光移动的方向,在晶体内部形成有效电场,实现三维结构的直写和擦除。这一新技术,突破了传统飞秒激光的光衍射极限,把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸,从传统的1微米量级,首次缩小到纳米级,达到30纳米,大大提高了加工精度。

  昨夜,国际学术期刊在线发表了我国科学家在量子模拟前沿领域的新突破。南京大学缪峰合作团队通过在“原子世界搭积木”的方式,把两个石墨烯双原子层,以旋转180度+0.75度的特殊角度叠加,并施加一个垂直电场,研制出一种全新的量子材料,并通过改变垂直电场,在国际物理学界首次观测到了量子融化的“中间态”,并揭示了这一量子“中间态”的演化机制。

  这一重大理论机制的创新成果,未来有望用于开发高密度集成、高度可调和易于读取的固体量子模拟器,例如通过模拟生物神经网络、化学反应系统等复杂体系的演化,用于类脑人工智能技术开发和新药研发等。

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