美股盘前异动：阿斯麦盘前跌3% 首席技术官称当前光刻技术或走到

　　 实时消息，9月28日，阿斯麦盘前跌3.17%，报419.54美元。

　　 ASML首席技术官Martin van den Brink表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术。ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成。至于High-NA EUV技术之后的技术方案，Martin表示，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头。