南大光电：缺陷检测设备对28nm以下制程芯片用光刻胶的检测有重要

　　有投资者在投资者互动平台提问：11月18日，你回复说“缺陷检测设备尚未完成采购”，12月2日，你回复说“缺陷检测设备主要针对28nm以下，而公司的ArF胶聚焦28-90nm，检测设备如光刻机已正常投入使用” 请问，目前正常使用的光刻机是什么时候采购的？缺陷检测设备既不是目前主要攻关课题，为何要抓紧采购？

　　南大光电2月3日在投资者互动平台表示，光刻机于2020年上半年采购进厂。 缺陷检测设备对28nm以下制程芯片用光刻胶的检测有重要作用。