ASML荷兰有限公司取得用于衍射图案引导的源掩模优化的方法和设备专利

　　国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司取得一项名为“用于衍射图案引导的源掩模优化的方法和设备”的专利，授权公告号CN 113544592 B，申请日期为2020年2月。