上海芯力基取得基于晶体管层设计提升集成电路效能的设计方法、系统及介质专利

发布时间:2025-02-19 21:59 已有: 人阅读

  国家知识产权局信息显示,上海芯力基半导体有限公司取得一项名为“基于晶体管层设计提升集成电路效能的设计方法、系统及介质”的专利,授权公告号 CN 119150786 B,申请日期为2024年11月。

   天眼查资料显示,上海芯力基半导体有限公司,成立于2023年,位于上海市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本674.28万人民币。通过天眼查大数据分析,上海芯力基半导体有限公司共对外投资了1家企业,知识产权方面有商标信息3条,专利信息23条。

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