上海玺唐半导体取得一种镓舟内部反应结构专利，增加氯化氢和金属镓的反应时间

　　国家知识产权局信息显示，上海玺唐半导体科技有限公司取得一项名为“一种镓舟内部反应结构”的专利，授权公告号 CN 222313384 U ，申请日期为2024年1月。

　　 专利摘要显示，本实用新型涉及氢化物气相外延反应设备技术领域，尤其涉及一种镓舟内部反应结构。其技术方案包括：位于镓舟中用于氯化氢与金属镓反应的壳体，所述壳体的内壁固定连接有上隔板，所述上隔板的底部连接有多组竖向隔板；所述壳体中安装有贯穿其的气体管道，所述气体管道分为两段，上段所述气体管道与上隔板的顶部连接，下段所述气体管道贯穿上隔板的底部以及壳体的底部；所述上隔板上开设有贯穿其的通孔二，所述上隔板的内壁还开设有空腔，且上隔板的底部开设有通孔一。本实用新型形成迂回路径，增加气体的反应路径，从而增加氯化氢和金属镓的反应时间，使得充分反应，避免反应气体的浪费，提高反应效果。

　　 天眼查资料显示，上海玺唐半导体科技有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币，实缴资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海玺唐半导体科技有限公司知识产权方面有商标信息2条，专利信息35条，此外企业还拥有行政许可4个。