赛晶亚太申请一种功率模块清洗装置专利，提高功率模块清洗效果

　　国家知识产权局信息显示，赛晶亚太半导体科技有限公司申请一项名为“一种功率模块清洗装置”的专利，公开号 CN 119327808 A，申请日期为 2024 年 11 月。

　　 专利摘要显示，本发明提供了一种功率模块清洗装置，包括：底板，所述底板两端固设有垂直设置的电极板；立板，所述立板上固设有支撑板，立板与底板固定连接；转移框架，所述转移框架上开有与功率模块相匹配的凹槽；夹持组件，所述夹持组件用于和支撑板形成夹持功率模块的夹持位。本发明有益效果：通过垂直设置的电极板产生水平的等离子流，通过夹持组件夹持功率模块后撤离转移框架使功率模块更好地暴露在等离子流中，提高了清洗效果。

　　 天眼查资料显示，赛晶亚太半导体科技有限公司，成立于2019年，位于嘉兴市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本4252.8706万美元，实缴资本4222.4306万美元。通过天眼查大数据分析，赛晶亚太半导体科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目9次，知识产权方面有商标信息1条，专利信息67条，此外企业还拥有行政许可7个。