苏州玖凌光宇科技取得用于磁控溅射的薄膜精确沉积专利

　　国家知识产权局信息显示，苏州玖凌光宇科技有限公司取得一项名为“用于磁控溅射的薄膜精确沉积方法以及沉积薄膜”的专利，授权公告号CN 118308701 B，申请日期为2024年5月。

　　 天眼查资料显示，苏州玖凌光宇科技有限公司，成立于2020年，位于苏州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本2240.3334万人民币，实缴资本741.8094万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州玖凌光宇科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目4次，专利信息15条，此外企业还拥有行政许可1个。