佐敦申请污垢释放涂层专利，提供污垢释放涂层

　　国家知识产权局信息显示，佐敦有限公司申请一项名为“污垢释放涂层”的专利，公开号CN 119350907 A，申请日期为2020年11月。

　　 专利摘要显示，本发明提供了污垢释放涂层。本发明还提供了一种污垢释放涂层组合物，包含：a)包含至少50wt％的聚硅氧烷部分的可固化基于聚硅氧烷的粘合剂；b)防垢剂；和c)10％‑30％干重的非离子亲水改性聚硅氧烷具有i)1 12的亲水亲脂平衡，和ii)500‑18,000g/mol的Mn。

　　 天眼查资料显示，佐敦有限公司，成立于2024年，位于，是一家以从事None为主的企业。企业注册资本None。通过天眼查大数据分析，佐敦有限公司。